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        加氫氮氣純化設備

        工藝原理:加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

        除氧原理為:H2+O2→H2O

           


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        工藝原理:

        加氫脫氧裝置以普氮為原料,經加氫催化除氧、冷卻、吸附干燥,再經過濾除去氮氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純度氮氣。

        除氧原理為:H2+O2→H2O


        加氫氮氣純化設備技術指標:

        處理氣量:10-500Nm3/h

        原料氮氣純度:≥99.5%
        產品氮氣純度:99.9995% O2≤5ppm H2:微量
        露點:≤-60℃
        產品氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa


        工藝流程圖:

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        加氫氮氣純化設備主要技術參數表:

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